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特許件数「来年は中国が日米を抜く」報告書

 グローバル専門情報サービス会社のトムソン・ロイターは11日、知的財産権に関する分析報告「中国における特許:中国のイノベーション活動の現状と未来」を発表した。それによると、2011年に中国は特許関連活動で世界トップの地位に立ち、年間の特許出願件数は日本と米国を追い抜く見込みという。

 同報告によると、03-09年に中国の特許取得件数の年間増加率は26.1%に達し、ライバルである米国の年間増加率はわずか5.5%だった。中国経済の枠組が変化するにつれ、中国のハイテク分野での特許取得件数の伸びが、農業分野での伸びをはるかに上回るようになった。中国のすべての発明における特許申請件数と特許取得件数との割合をみると、中国の発明の質が不断に高まっている様子がうかがえる。(編集KS)

 「人民網日本語版」2010年10月12日

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