中国国際グラフェン革新大会、青島市で開催へ

中国グラフェン産業技術革新戦略連盟が発表した情報によると、2010年のノーベル物理学賞受賞者、英マンチェスター大学のアンドレ・ガイム氏を含む多くの世界的に有名な専門家が、10月28～30日に青島国際会展センターで開かれる2015年中国国際グラフェン革新大会（GRAPCHINA 2015）に出席することになった。科技日報が伝えた。

同大会のテーマは「グラフェンの実用化のソリューションプラン」。講演とサブフォーラムで取り上げられる内容には、生産技術、標準化、新エネルギー、放熱、タッチパネル、伝導性インク、複合材料、機能性塗料など30以上のニッチ分野が含まれ、業界展示交流、学術資料の展示なども行われる。同大会では4つの基礎応用サブ会場、6つの特色あるフォーラム、7つの二国間協力フォーラム、22の応用技術サブ会場が設置される。また会期中に、国際革新創業コンテストが開かれる。（編集YF）

「人民網日本語版」2015年10月14日